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上海微系统所研发3D电子束光刻技术可用于智能仿生感知
09/02
电子束光刻精度极高,通常是二维微纳加工获得最小尺寸的标准工具,如何把电子束光刻的能力拓展到真三维微纳加工是研究的努力方向。
新型光刻技术解决硅材料脆性难题,MEMS机械性能极限有望突破
06/22
据麦姆斯咨询介绍,硅材料从大自然常见的沙子中取材,成本低、产量大,因此被广泛用作MEMS器件的衬底材料,并被誉为信息时代的“骨干”材料。
欧盟研发纳米结构传感器阵列技术获突破
12/04
欧盟研发纳米结构传感器阵列技术获突破,其利用最先进的纳米压印光刻技术,整合卷到卷生产制造工艺,实现了低成本大批量制造生产大面积NSA的工业流程设计和设备样机开发,奠定了NSA进一步商业化推广应用的基础。
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